Productos

Proceso de epitaxia de SiC

Los exclusivos recubrimientos de carburo de VeTek Semiconductor brindan una protección superior para las piezas de grafito en el proceso de epitaxia de SiC para el procesamiento de materiales semiconductores y semiconductores compuestos exigentes. El resultado es una vida útil prolongada de los componentes de grafito, la preservación de la estequiometría de la reacción, la inhibición de la migración de impurezas a aplicaciones de epitaxia y crecimiento de cristales, lo que resulta en un mayor rendimiento y calidad.


Nuestros recubrimientos de carburo de tantalio (TaC) protegen los componentes críticos de hornos y reactores a altas temperaturas (hasta 2200 °C) del amoníaco caliente, el hidrógeno, los vapores de silicio y los metales fundidos. VeTek Semiconductor tiene una amplia gama de capacidades de medición y procesamiento de grafito para satisfacer sus requisitos personalizados, por lo que podemos ofrecer un recubrimiento de pago o un servicio completo, con nuestro equipo de ingenieros expertos listos para diseñar la solución adecuada para usted y su aplicación específica. .


Cristales semiconductores compuestos

VeTek Semiconductor puede proporcionar recubrimientos TaC especiales para diversos componentes y soportes. A través del proceso de recubrimiento líder en la industria de VeTek Semiconductor, el recubrimiento TaC puede obtener alta pureza, estabilidad a altas temperaturas y alta resistencia química, mejorando así la calidad del producto de las capas cristalinas de TaC/GaN) y EPl, y extendiendo la vida útil de los componentes críticos del reactor.


Aisladores térmicos

Componentes de crecimiento de cristales de SiC, GaN y AlN, incluidos crisoles, portasemillas, deflectores y filtros. Conjuntos industriales que incluyen elementos calefactores resistivos, boquillas, anillos de protección y accesorios de soldadura fuerte, componentes del reactor CVD epitaxial de GaN y SiC, incluidos portadores de obleas, bandejas satélite, cabezales de ducha, tapas y pedestales, componentes MOCVD.


Objetivo:

 ● Portador de oblea LED (diodo emisor de luz)

● Receptor ALD (Semiconductor)

● Receptor EPI (proceso de epitaxia de SiC)


Comparación del recubrimiento de SiC y el recubrimiento de TaC:

Sic TaC
Características principales Pureza ultraalta, excelente resistencia al plasma Excelente estabilidad a altas temperaturas (conformidad con el proceso a altas temperaturas)
Pureza >99,9999% >99,9999%
Densidad (g/cm3) 3.21 15
Dureza (kg/mm2) 2900-3300 6.7-7.2
Resistividad [Ωcm] 0,1-15.000 <1
Conductividad térmica (W/m-K) 200-360 22
Coeficiente de expansión térmica(10-6/℃) 4.5-5 6.3
Solicitud Plantilla de cerámica para equipos semiconductores (anillo de enfoque, cabezal de ducha, oblea simulada) Piezas de equipos de crecimiento monocristalino de SiC, Epi, LED UV


View as  
 
Part de repuesto de recubrimiento TAC

Part de repuesto de recubrimiento TAC

El recubrimiento TAC se utiliza actualmente principalmente en procesos como el crecimiento de un solo cristal de carburo de silicio (método PVT), disco epitaxial (incluida la epitaxia de carburo de silicio, la epitaxia LED), etc. combinada con la buena estabilidad a largo plazo de la placa de recubrimiento de TAC, la placa de recubrimiento de Veteksemicon se ha convertido en el benchmark para la placa de recubrimiento de TAC. Esperamos que se convierta en nuestro socio a largo plazo.
Gan en el receptor EPI

Gan en el receptor EPI

GaN en el susceptor SIC EPI juega un papel vital en el procesamiento de semiconductores a través de su excelente conductividad térmica, capacidad de procesamiento de alta temperatura y estabilidad química, y garantiza la alta eficiencia y la calidad del material del proceso de crecimiento epitaxial de GaN. Vetek Semiconductor es un fabricante profesional de GaN de China en SIC EPI susceptor, esperamos sinceramente su consulta adicional.
Portador de revestimiento CVD TAC

Portador de revestimiento CVD TAC

El portador de recubrimiento CVD TAC está diseñado principalmente para el proceso epitaxial de fabricación de semiconductores. El punto de fusión Ultra High CVD TAC CVD TAC, excelente resistencia a la corrosión y estabilidad térmica sobresaliente determinan la indispensabilidad de este producto en el proceso epitaxial semiconductor. Dé la bienvenida a su investigación adicional.
Soporte de grafito recubierto de TAC

Soporte de grafito recubierto de TAC

El susceptor de grafito con recubrimiento con el semiconductor de Vetek utiliza el método de depósito de vapor químico (CVD) para preparar el recubrimiento de carburo tantálico en la superficie de las piezas de grafito. Este proceso es el más maduro y tiene las mejores propiedades de recubrimiento. El susceptor de grafito recubierto de TAC puede extender la vida útil de los componentes de grafito, inhibir la migración de impurezas de grafito y garantizar la calidad de la epitaxia. Esperamos su consulta.
Subser de recubrimiento TAC

Subser de recubrimiento TAC

El semiconductor de Vetek presenta el susceptor de recubrimiento TAC, con su recubrimiento de TAC excepcional, este susceptor ofrece una multitud de ventajas que lo distinguen de soluciones convencionales. Integrando perfectamente en los sistemas existentes, el susceptor de recubrimiento TAC de Vetek Semiconductor garantiza la compatibilidad y operación eficiente. Su rendimiento confiable y su recubrimiento TAC de alta calidad ofrecen consistentemente resultados excepcionales en procesos de epitaxia SIC. Estamos comprometidos a proporcionar productos de calidad a precios competitivos y esperamos ser su socio a largo plazo en China.
Placa de rotación de recubrimiento TAC

Placa de rotación de recubrimiento TAC

La placa de rotación de recubrimiento de TAC producida por Vetek Semiconductor cuenta con un excelente recubrimiento TAC, con su excepcional recubrimiento de TAC, las jactas de la placa de rotación de TAC tienen una notable resistencia a la alta temperatura y la inercia química, que lo distingue de las soluciones tradicionales. Estamos comprometidos a proporcionar productos de calidad a precios competitivos y esperamos ser su socio a largo plazo en China.
Como fabricante y proveedor profesional Proceso de epitaxia de SiC en China, tenemos nuestra propia fábrica. Ya sea que necesite servicios personalizados para satisfacer las necesidades específicas de su región o desee comprar Proceso de epitaxia de SiC avanzado y duradero realizados en China, puede dejarnos un mensaje.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept