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El trozo de oblea es una herramienta de sujeción de oblea en procesos de semiconductores y se usa ampliamente en PVD, CVD, ETCH y otros procesos. El mandril de oblea de Vetek Semiconductor desempeña un papel fundamental en la producción de semiconductores, lo que permite una producción rápida y de alta calidad. Con fabricación interna, precios competitivos y un sólido soporte de I+D, Vetek Semiconductor se destaca en servicios OEM/ODM para componentes de precisión. Esperamos su consulta.

El barco de oblea de SiC se utiliza para transportar la oblea, principalmente para el proceso de oxidación y difusión, para garantizar que la temperatura se pueda distribuir uniformemente en la superficie de la oblea. La estabilidad a alta temperatura y la alta conductividad térmica de los materiales de SiC garantizan un procesamiento de semiconductores eficiente y fiable. Vetek semiconductor se compromete a ofrecer productos de calidad a precios competitivos.

VeTek Semiconductor proporciona tubos de proceso de SiC de alto rendimiento para la fabricación de semiconductores. Nuestros tubos de proceso de SiC destacan en procesos de oxidación y difusión. Con calidad y mano de obra superiores, estos tubos ofrecen estabilidad a altas temperaturas y conductividad térmica para un procesamiento eficiente de semiconductores. Ofrecemos precios competitivos y buscamos ser su socio a largo plazo en China.

La paleta voladiza de SiC de VeTek Semiconductor se utiliza en hornos de tratamiento térmico para manipular y soportar barcos de obleas. La estabilidad a alta temperatura y la alta conductividad térmica del material de SiC garantizan una alta eficiencia y confiabilidad en el proceso de procesamiento de semiconductores. Estamos comprometidos a ofrecer productos de alta calidad a precios competitivos y esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.

Proceso ALD, significa proceso de epitaxia de capa atómica. Los fabricantes de sistemas Semiconductores y ALD de Vetek han desarrollado y producido susceptores planetarios ALD recubiertos de SIC que cumplan con los altos requisitos del proceso ALD para distribuir uniformemente el flujo de aire sobre el sustrato. Al mismo tiempo, nuestro recubrimiento CVD SIC de alta pureza garantiza la pureza en el proceso. Bienvenido para discutir la cooperación con nosotros.

El susceptor de grafito con recubrimiento con el semiconductor de Vetek utiliza el método de depósito de vapor químico (CVD) para preparar el recubrimiento de carburo tantálico en la superficie de las piezas de grafito. Este proceso es el más maduro y tiene las mejores propiedades de recubrimiento. El susceptor de grafito recubierto de TAC puede extender la vida útil de los componentes de grafito, inhibir la migración de impurezas de grafito y garantizar la calidad de la epitaxia. Esperamos su consulta.