Carburo tantalum poroso

Vetek Semiconductor Tantalum Tantalum Carbide (TAC) es un material cerámico de alto rendimiento que combina las propiedades del tantalio y el carbono. Su estructura porosa es muy adecuada para aplicaciones específicas a alta temperatura y ambientes extremos. TAC combina una excelente dureza, estabilidad térmica y resistencia química, lo que lo convierte en una elección de material ideal en el procesamiento de semiconductores.

El carburo de tántalo poroso (TAC) está compuesto de tantalum (TA) y carbono (c), en el que el tantalum forma un fuerte enlace químico con los átomos de carbono, lo que le da al material la durabilidad y la resistencia al desgaste extremadamente alta. La estructura porosa del TAC poroso se crea durante el proceso de fabricación del material, y la porosidad se puede controlar de acuerdo con las necesidades de aplicación específicas. Este producto generalmente se fabrica porDeposición de vapor químico (CVD)Método, asegurando un control preciso de su tamaño de poro y distribución.

Estructura molecular del carburo tantalum

Vetek Semiconductor Tantalum Tantalum Carbide (TAC) tiene las siguientes características del producto

● Porosidad: La estructura porosa le da diferentes funciones en escenarios de aplicación específicos, incluida la difusión de gas, la filtración o la disipación de calor controlada.

● Alto punto de fusión: Tantalum El carburo tiene un punto de fusión extremadamente alto de aproximadamente 3,880 ° C, que es adecuado para entornos de temperatura extremadamente alta.

● Excelente dureza: El TAC poroso tiene una dureza extremadamente alta de aproximadamente 9-10 en la escala de dureza de Mohs, similar al diamante. y puede resistir el desgaste mecánico en condiciones extremas.

● Estabilidad térmica: El material de carburo tantalum (TAC) puede permanecer estable en entornos de alta temperatura y tiene una fuerte estabilidad térmica, asegurando su rendimiento constante en entornos de alta temperatura.

● Conductividad térmica alta: A pesar de su porosidad, el carburo de tántalo poroso aún conserva una buena conductividad térmica, asegurando una transferencia de calor eficiente.

● Coeficiente de expansión térmica baja: El bajo coeficiente de expansión térmica del carburo tantalum (TAC) ayuda al material a permanecer dimensionalmente estable bajo fluctuaciones de temperatura significativas y reduce el impacto del estrés térmico.

Propiedades físicas del recubrimiento TAC

En la fabricación de semiconductores, el carburo tantalum poroso (TAC) juega el siguiente papel clave específicos

En procesos de alta temperatura comograbado de plasmay CVD, el carburo tantalum poroso de semiconductores vetek se usa a menudo como un recubrimiento protector para el equipo de procesamiento. Esto se debe a la fuerte resistencia a la corrosión deRecubrimiento TACy su estabilidad de alta temperatura. Estas propiedades aseguran que proteja efectivamente las superficies expuestas a gases reactivos o temperaturas extremas, asegurando así la reacción normal de los procesos de alta temperatura.

En los procesos de difusión, el carburo de tántalo poroso puede servir como una barrera de difusión efectiva para evitar la mezcla de materiales en procesos de alta temperatura. Esta característica a menudo se usa para controlar la difusión de dopantes en procesos como la implantación de iones y el control de la pureza de las obleas semiconductores.

La estructura porosa del carburo tantalum poroso de semiconductores vetek es muy adecuada para entornos de procesamiento de semiconductores que requieren un control o filtración preciso de flujo de gas. En este proceso, el TAC poroso juega principalmente el papel de la filtración y distribución de gas. Su inercia química asegura que no se introduzcan contaminantes durante el proceso de filtración. Esto garantiza efectivamente la pureza del producto procesado.

Recubrimiento de carburo tantalum (TAC) en una sección transversal microscópica