Pedestal de silicona

El susceptor de silicio VeTek Semiconductor es un producto de silicio puro diseñado para garantizar la estabilidad de la temperatura en el tubo del reactor térmico durante el procesamiento de obleas de silicio, mejorando así la eficiencia del aislamiento térmico. El procesamiento de obleas de silicio es un proceso extremadamente preciso y la temperatura juega un papel crucial, ya que afecta directamente el espesor y la uniformidad de la película de oblea de silicio.

El pedestal de silicio está ubicado en la parte inferior del tubo del reactor térmico del horno, soportando el silicio.transportista de obleasal mismo tiempo que proporciona un aislamiento térmico eficaz. Al final del proceso, junto con el soporte de la oblea de silicio, se enfría gradualmente hasta temperatura ambiente.

Funciones principales y beneficios de los pedestales de silicio semiconductores VeTek:

Proporcionar soporte estable para garantizar la precisión del proceso.

El pedestal de silicio proporciona una plataforma de soporte estable y altamente resistente al calor para el bote de silicio en la cámara de horno de alta temperatura. Esta estabilidad puede evitar efectivamente que el bote de silicio cambie o se incline durante el procesamiento, evitando así afectar la uniformidad del flujo de aire o destruir la distribución de temperatura, asegurando una alta precisión y consistencia del proceso.

Mejorar la uniformidad de la temperatura en el horno y mejorar la calidad de la oblea

Al aislar el bote de silicio del contacto directo con el fondo o la pared del horno, la base de silicio puede reducir la pérdida de calor causada por la conducción, logrando así una distribución de temperatura más uniforme en el tubo de reacción térmica. Este entorno térmico uniforme es esencial para lograr la uniformidad de la difusión de la oblea y la capa de óxido, mejorando en gran medida la calidad general de la oblea.

Optimice el rendimiento del aislamiento térmico y reduzca el consumo de energía.

Las excelentes propiedades de aislamiento térmico del material base de silicio ayudan a reducir la pérdida de calor en la cámara del horno, mejorando significativamente la eficiencia energética del proceso. Este eficiente mecanismo de gestión térmica no solo acelera el ciclo de calefacción y enfriamiento, sino que también reduce el consumo de energía y los costos operativos, proporcionando una solución más económica para la fabricación de semiconductores.

Especificaciones del pedestal de silicio semiconductor VeTek

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