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El semiconductor Vetek ofrece un fuck de cerámica SIC poroso ampliamente utilizado en tecnología de procesamiento de obleas, transferencia y otros enlaces, adecuados para la unión, escriba, parche, pulido y otros enlaces, procesamiento de láser. Nuestro fuck de cerámica sic poroso tiene adsorción de vacío ultra fuerte, la alta planitud y la alta pureza satisfacen las necesidades de la mayoría de las industrias de semiconductores.

Vetek Semiconductor es un fabricante profesional de silicio chino en la oblea aislante. La oblea de silicio sobre aislante es un importante material de sustrato de semiconductores, y sus excelentes características del producto lo hacen jugar un papel clave en aplicaciones de alto rendimiento, de baja potencia, alta integración y RF. Esperamos su consulta.

El recubrimiento TAC se utiliza actualmente principalmente en procesos como el crecimiento de un solo cristal de carburo de silicio (método PVT), disco epitaxial (incluida la epitaxia de carburo de silicio, la epitaxia LED), etc. combinada con la buena estabilidad a largo plazo de la placa de recubrimiento de TAC, la placa de recubrimiento de Veteksemicon se ha convertido en el benchmark para la placa de recubrimiento de TAC. Esperamos que se convierta en nuestro socio a largo plazo.

Como un consumible núcleo en el proceso de fabricación de semiconductores, el grafito poroso juega un papel irremplazable en múltiples enlaces como el crecimiento de cristales, el dopaje y el recocido. Como fabricante profesional de grafito poroso, Vetek Semiconductor se compromete a proporcionar productos de grafito poroso de alta calidad a precios competitivos, dan la bienvenida a su investigación adicional.

GaN en el susceptor SIC EPI juega un papel vital en el procesamiento de semiconductores a través de su excelente conductividad térmica, capacidad de procesamiento de alta temperatura y estabilidad química, y garantiza la alta eficiencia y la calidad del material del proceso de crecimiento epitaxial de GaN. Vetek Semiconductor es un fabricante profesional de GaN de China en SIC EPI susceptor, esperamos sinceramente su consulta adicional.

El portador de recubrimiento CVD TAC está diseñado principalmente para el proceso epitaxial de fabricación de semiconductores. El punto de fusión Ultra High CVD TAC CVD TAC, excelente resistencia a la corrosión y estabilidad térmica sobresaliente determinan la indispensabilidad de este producto en el proceso epitaxial semiconductor. Dé la bienvenida a su investigación adicional.