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Barco de grafito para PECVD
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Barco de grafito para PECVD

El bote de grafito Veteksemicon para PECVD está mecanizado con precisión a partir de grafito de alta pureza y diseñado específicamente para procesos de deposición química de vapor mejorados con plasma. Aprovechando nuestro profundo conocimiento de los materiales semiconductores de campo térmico y nuestras capacidades de mecanizado de precisión, ofrecemos botes de grafito con una estabilidad térmica excepcional, una conductividad excelente y una larga vida útil. Estos botes están diseñados para garantizar una deposición de películas delgadas altamente uniforme en cada oblea en el exigente entorno de proceso PECVD, mejorando el rendimiento y la productividad del proceso.

Solicitud: El bote de grafito Veteksemicon para PECVD es un componente central en el proceso de deposición química de vapor mejorado por plasma. Está diseñado específicamente para depositar nitruro de silicio, óxido de silicio y otras películas delgadas de alta calidad sobre obleas de silicio, semiconductores compuestos y sustratos de paneles de visualización. Su desempeño determina directamente la uniformidad de la película, la estabilidad del proceso y el costo de producción.


Servicios que se pueden proporcionar: análisis de escenarios de aplicación del cliente, combinación de materiales, resolución de problemas técnicos.


Perfil de la empresa:Veteksemicon cuenta con 2 laboratorios, un equipo de expertos con 20 años de experiencia en materiales, con capacidades de I+D y producción, pruebas y verificación.


Información general del producto


Lugar de origen:
Porcelana
Nombre de marca:
mi rival
Número de modelo:
Barco de grafito para PECVD-01
Proceso de dar un título:
ISO9001

Términos comerciales del producto

Cantidad mínima de pedido:
Sujeto a negociación
Precio:
Contactopara cotización personalizada
Detalles de empaquetado:
Paquete de exportación estándar
El tiempo de entrega:
Tiempo de entrega: 30-45 días después de la confirmación del pedido
Condiciones de pago:
T/T
Capacidad de suministro:
1000 unidades/mes

Parámetros técnicos

proyecto
parámetro
Materia prima
Grafito de alta pureza prensado isostáticamente
Densidad del material
1,82 ± 0,02 g/cm3
Temperatura máxima de funcionamiento
1600°C (atmósfera de vacío o gas inerte)
Especificaciones compatibles con obleas
Admite 100 mm (4 pulgadas) a 300 mm (12 pulgadas), personalizable
Capacidad de diapositivas
Personalizado según el tamaño de la cámara del cliente, el valor típico es de 50 a 200 piezas (6 pulgadas)
Opciones de recubrimiento
Carbón pirolítico/carburo de silicio
espesor del recubrimiento
Estándar 20 - 50 μm (personalizable)
Rugosidad de la superficie (después del recubrimiento)
Ra ≤ 0,6 µm

 

Principales campos de aplicación

Dirección de aplicación
Escenario típico
Industria fotovoltaica
Deposición de película antirreflectante de nitruro de silicio/óxido de aluminio de células fotovoltaicas
Parte frontal de semiconductores
Proceso PECVD de semiconductores compuestos/basados ​​en silicio
Pantalla avanzada
Deposición de la capa de encapsulación del panel de pantalla OLED


Barco de grafito Veteksemicon para las principales ventajas de PECVD


1. Sustratos de alta pureza, controlando la contaminación desde la fuente.

Insistimos en utilizar grafito de alta pureza prensado isostáticamente con una pureza estable de más del 99,995 % como material base para garantizar que no precipite impurezas metálicas incluso en un entorno operativo continuo de 1600 °C. Este estricto requisito de material puede evitar directamente la degradación del rendimiento de las obleas causada por la contaminación del portador, proporcionando la garantía más fundamental para depositar películas de nitruro de silicio u óxido de silicio de alta calidad.


2. Campo térmico preciso y diseño estructural para garantizar la uniformidad del proceso.

A través de una extensa simulación de fluidos y datos de medición de procesos, hemos optimizado el ángulo de la ranura de la embarcación, la profundidad de la ranura guía y la ruta del flujo de gas. Esta meticulosa consideración estructural permite una distribución uniforme de los gases reactivos entre las obleas. Las mediciones reales muestran que a plena carga, la desviación de uniformidad del espesor de la película entre obleas en el mismo lote se puede controlar de manera estable dentro de ±1,5%, lo que mejora significativamente el rendimiento del producto.


3. Soluciones de recubrimiento personalizadas para abordar la corrosión de procesos específicos

Para satisfacer los diferentes entornos de gas de proceso de diferentes clientes, ofrecemos dos opciones de recubrimiento maduras: carbón pirolítico y carburo de silicio. Si deposita principalmente nitruro de silicio y utiliza limpieza con hidrógeno, el denso recubrimiento de carbón pirolítico puede proporcionar una excelente resistencia a la erosión del plasma de hidrógeno. Si su proceso implica gases de limpieza que contienen flúor, entonces el recubrimiento de carburo de silicio de alta dureza es una mejor opción. Puede extender la vida útil de la embarcación de grafito en ambientes altamente corrosivos a más de tres veces la de los productos ordinarios sin recubrimiento.


4. Excelente estabilidad al choque térmico, adaptable a ciclos de temperatura frecuentes.

Gracias a nuestra fórmula única de grafito y al diseño de nervaduras de refuerzo interno, nuestros botes de grafito pueden resistir los repetidos y rápidos choques de enfriamiento y calentamiento del proceso PECVD. En rigurosas pruebas de laboratorio, después de 500 ciclos térmicos rápidos desde temperatura ambiente hasta 800°C, la tasa de retención de resistencia a la flexión del barco aún superó el 90%, evitando efectivamente el agrietamiento causado por el estrés térmico y garantizando la continuidad y seguridad de la producción.


5. Aval de verificación de la cadena ecológica

El barco Veteksemicon Graphite para la verificación de la cadena ecológica de PECVD abarca desde las materias primas hasta la producción, ha pasado la certificación estándar internacional y tiene una serie de tecnologías patentadas para garantizar su confiabilidad y sostenibilidad en los campos de semiconductores y nuevas energías.


Para obtener especificaciones técnicas detalladas, documentos técnicos o arreglos de prueba de muestra, comuníquese con nuestro equipo de soporte técnico para explorar cómo Veteksemicon puede mejorar la eficiencia de su proceso.


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