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Receptor MOCVD Aixtron
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Receptor MOCVD Aixtron

El susceptor Aixtron MOCVD de Vetek Semiconductor se utiliza en el proceso de deposición de película delgada de la producción de semiconductores, especialmente en el proceso MOCVD. Vetek Semiconductor se centra en la fabricación y suministro de productos Aixtron MOCVD Susceptor de alto rendimiento. Bienvenido a su consulta.

Los susceptores producidos porSemiconductores Vetekestán hechos de sustrato de grafito y material de recubrimiento de carburo de silicio (SiC). Dada la mayor resistencia al desgaste, la resistencia a la corrosión y la dureza extremadamente alta del material SiC, es particularmente adecuado para su uso en entornos de proceso hostiles. Por lo tanto, los susceptores producidos por Vetek Semiconductor se pueden utilizar directamente en procesos MOCVD de alta temperatura sin tratamiento superficial adicional.


Los susceptores son componentes clave en la fabricación de semiconductores, especialmente en equipos MOCVD para procesos de deposición de películas delgadas. El papel principal deReceptor SiC AixtronEn el proceso MOCVD es transportar obleas semiconductores, garantizar un depósito de películas delgadas uniformes y de alta calidad al proporcionar una distribución de calor uniforme y un entorno de reacción, logrando así una producción de película delgada de alta calidad.


Supportador de Aixtron MOCVDSe utiliza generalmente para soportar y fijar la base de obleas semiconductoras para garantizar la estabilidad de la oblea durante el proceso de deposición. Al mismo tiempo, el revestimiento de la superficie del Aixtron MOCVD Susceptor está hecho de carburo de silicio (SiC), un material altamente conductor térmico. El recubrimiento de SiC garantiza una temperatura uniforme en la superficie de la oblea y un calentamiento uniforme es esencial para obtener películas de alta calidad.


Además, elSupportador de Aixtron MOCVDProducimos que los juegos son un papel mayor en el control del flujo y la distribución de gases reactivos a través del diseño optimizado de materiales. Evite las corrientes de Eddy y los gradientes de temperatura para lograr una deposición de películas uniformes.


Más importante aún, en el proceso MOCVD, el material de recubrimiento de carburo de silicio (SiC) tiene resistencia a la corrosión, por lo queSemiconductores Vetek'sSupportador de Aixtron MOCVDTambién puede soportar altas temperaturas y gases corrosivos.


Propiedades físicas básicas deRecubrimiento sic:

CVD SIC COATING FILM CRYSTAL STRUCTURE



Semiconductores Vetek Wafer Boat Shops:

VeTek Semiconductor Production Shop


Descripción general de la cadena de la industria de la epitaxia de chips semiconductores:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain

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