Susceptor de recocido térmico rápido

El susceptor de recocido térmico rápido VeTek Semiconductor tiene alta calidad y larga vida útil, bienvenido a consultarnos.

El recocido térmico rápido (RTA) es un subconjunto crucial de procesamiento térmico rápido utilizado en la fabricación de dispositivos semiconductores. Implica el calentamiento de obleas individuales para modificar sus propiedades eléctricas a través de varios tratamientos térmicos específicos. El proceso RTA permite la activación de los dopantes, la alteración de las interfaces de sustrato de película a película o de película, densificación de películas depositadas, modificación de estados de películas cultivadas, reparación del daño de implantación de iones, movimiento de dopante y dopantes de conducción entre películas entre películas o en el sustrato de obleas.

El producto VeTek Semiconductor, el susceptor de recocido térmico rápido, desempeña un papel vital en el proceso RTP. Está construido con material de grafito de alta pureza con una capa protectora de carburo de silicio (SiC) inerte. El sustrato de silicio recubierto de SiC puede soportar temperaturas de hasta 1100 °C, lo que garantiza un rendimiento confiable incluso en condiciones extremas. El recubrimiento de SiC proporciona una excelente protección contra fugas de gas y desprendimiento de partículas, lo que garantiza la longevidad del producto.

Para mantener un control preciso de la temperatura, el chip está encapsulado entre dos componentes de grafito de alta pureza recubiertos con SiC. Se pueden obtener mediciones de temperatura precisas mediante sensores de alta temperatura integrados o termopares en contacto con el sustrato.

Propiedades físicas básicas del recubrimiento CVD SiC:

Taller de producción de semiconductores VeTek:

Descripción general de la cadena de la industria de la epitaxia de chips semiconductores: