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Este artículo analiza las características del producto y los escenarios de aplicación del recubrimiento de carburo tantalum y el recubrimiento de carburo de silicio desde múltiples perspectivas.

La deposición de película delgada es vital en la fabricación de chips, creando micro dispositivos depositando películas de menos de 1 micras de espesor a través de CVD, ALD o PVD. Estos procesos construyen componentes semiconductores mediante películas conductoras y aislantes alternativas.

El proceso de fabricación de semiconductores implica ocho pasos: procesamiento de obleas, oxidación, litografía, grabado, deposición de película delgada, interconexión, pruebas y empaquetado. El silicio de la arena se procesa en obleas, oxidada, estampada y grabada para circuitos de alta precisión.

Este artículo describe que el sustrato LED es la mayor aplicación de zafiro, así como los principales métodos de preparación de cristales de zafiro: crecientes cristales de zafiro por el método Czochralski, los cristales de zafiro crecientes por el método Kyropoulos, los cristales de zafiro cultivados por el método de molde guiado y el cultivo de cristales de zafiro mediante el método de intercambio de calor.

El artículo explica el gradiente de temperatura en un horno de cristal único. Cubre los campos de calor estáticos y dinámicos durante el crecimiento del cristal, la interfaz sólida-líquido y el papel del gradiente de temperatura en la solidificación.

El proceso Taiko Thins Silicon Wafers utilizando sus principios, ventajas técnicas y orígenes del proceso.