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Principios y tecnología de recubrimiento de deposición de vapor físico (PVD) (2/2) - Semiconductor Vetek24 2024-09

Principios y tecnología de recubrimiento de deposición de vapor físico (PVD) (2/2) - Semiconductor Vetek

La evaporación del haz de electrones es un método de revestimiento altamente eficiente y ampliamente utilizado en comparación con el calentamiento de resistencia, que calienta el material de evaporación con un haz de electrones, lo que hace que se vaporice y se condensa en una película delgada.
Principios y tecnología de recubrimiento de deposición de vapor físico (1/2) - Vetek Semiconductor24 2024-09

Principios y tecnología de recubrimiento de deposición de vapor físico (1/2) - Vetek Semiconductor

El recubrimiento de vacío incluye vaporización por material de película, transporte de vacío y crecimiento de películas delgadas. De acuerdo con los diferentes métodos de vaporización de material de película y procesos de transporte, el recubrimiento de vacío se puede dividir en dos categorías: PVD y CVD.
¿Qué es el grafito poroso? - Semiconductor Vetek23 2024-09

¿Qué es el grafito poroso? - Semiconductor Vetek

Este artículo describe los parámetros físicos y las características del producto del grafito poroso del semiconductor de Vetek, así como sus aplicaciones específicas en el procesamiento de semiconductores.
¿Cuál es la diferencia entre el carburo de silicio y los recubrimientos de carburo tantalum?19 2024-09

¿Cuál es la diferencia entre el carburo de silicio y los recubrimientos de carburo tantalum?

Este artículo analiza las características del producto y los escenarios de aplicación del recubrimiento de carburo tantalum y el recubrimiento de carburo de silicio desde múltiples perspectivas.
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