Noticias

Noticias de la industria

¿Por qué se destaca 3C-SIC entre muchos polimorfos SIC? - Semiconductor Vetek16 2024-10

¿Por qué se destaca 3C-SIC entre muchos polimorfos SIC? - Semiconductor Vetek

El carburo de silicio (SIC) es un material semiconductor de alta precisión conocido por sus excelentes propiedades como alta resistencia a la temperatura, resistencia a la corrosión y alta resistencia mecánica. Tiene más de 200 estructuras de cristal, siendo 3C-SIC el único tipo cúbico, que ofrece una esfericidad y densificación natural superiores en comparación con otros tipos. 3C-SIC se destaca por su alta movilidad de electrones, lo que lo hace ideal para MOSFET en Power Electronics. Además, muestra un gran potencial en nanoelectrónica, LED azules y sensores.
Diamond - La futura estrella de los semiconductores15 2024-10

Diamond - La futura estrella de los semiconductores

El diamante, un posible "semiconductor definitivo" de cuarta generación, está ganando atención en los sustratos semiconductores debido a su excepcional dureza, conductividad térmica y propiedades eléctricas. Si bien su alto costo y sus desafíos de producción limitan su uso, la CVD es el método preferido. A pesar del dopaje y los desafíos relacionados con los cristales de gran superficie, el diamante es prometedor.
¿Cuál es la diferencia entre las aplicaciones de carburo de silicio (SiC) y nitruro de galio (GaN)? - VeTek Semiconductor10 2024-10

¿Cuál es la diferencia entre las aplicaciones de carburo de silicio (SiC) y nitruro de galio (GaN)? - VeTek Semiconductor

SIC y GaN son semiconductores de banda ancha con ventajas sobre el silicio, como voltajes de descomposición más altos, velocidades de conmutación más rápidas y eficiencia superior. SIC es mejor para aplicaciones de alto voltaje y alta potencia debido a su mayor conductividad térmica, mientras que GaN se destaca en aplicaciones de alta frecuencia gracias a su movilidad de electrones superior.
Principios y tecnología de recubrimiento de deposición de vapor físico (PVD) (2/2) - Semiconductor Vetek24 2024-09

Principios y tecnología de recubrimiento de deposición de vapor físico (PVD) (2/2) - Semiconductor Vetek

La evaporación del haz de electrones es un método de revestimiento altamente eficiente y ampliamente utilizado en comparación con el calentamiento de resistencia, que calienta el material de evaporación con un haz de electrones, lo que hace que se vaporice y se condensa en una película delgada.
Principios y tecnología de recubrimiento de deposición de vapor físico (1/2) - Vetek Semiconductor24 2024-09

Principios y tecnología de recubrimiento de deposición de vapor físico (1/2) - Vetek Semiconductor

El recubrimiento de vacío incluye vaporización por material de película, transporte de vacío y crecimiento de películas delgadas. De acuerdo con los diferentes métodos de vaporización de material de película y procesos de transporte, el recubrimiento de vacío se puede dividir en dos categorías: PVD y CVD.
¿Qué es el grafito poroso? - Semiconductor Vetek23 2024-09

¿Qué es el grafito poroso? - Semiconductor Vetek

Este artículo describe los parámetros físicos y las características del producto del grafito poroso del semiconductor de Vetek, así como sus aplicaciones específicas en el procesamiento de semiconductores.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept