Proceso de grabado ICP/PSS

El portador de obleas para proceso de grabado ICPPSS (desmontaje de fotorresistente de plasma acoplado inductivamente) de VeTek Semiconductor está diseñado específicamente para cumplir con los exigentes requisitos de los procesos de grabado de la industria de semiconductores. Con sus funciones avanzadas, garantiza un rendimiento, eficiencia y confiabilidad óptimos durante todo el proceso de grabado.

La ventaja de los proveedores de procesos de grabado ICP/PSS de VeTek Semiconductor:

Compatibilidad química mejorada: el soporte de la oblea está construido con materiales que exhiben una excelente compatibilidad química con las químicas del proceso de grabado. Esto garantiza la compatibilidad con una amplia gama de grabadores, decapantes resistentes y soluciones de limpieza, minimizando el riesgo de reacciones químicas o contaminación.

Resistencia a altas temperaturas: el soporte de oblea está diseñado para soportar las altas temperaturas encontradas durante el proceso de grabado. Mantiene su integridad estructural y resistencia mecánica, evitando deformaciones o daños incluso en condiciones térmicas extremas.

Uniformidad de grabado superior: el portador presenta un diseño diseñado con precisión que promueve la distribución uniforme de grabadores y gases a través de la superficie de la oblea. Esto da como resultado tasas de grabado consistentes y patrones uniformes de alta calidad, esenciales para lograr resultados de grabado precisos y confiables.

Excelente estabilidad de la oblea: el transportador incorpora un mecanismo seguro de sujeción de la oblea que garantiza un posicionamiento estable y evita el movimiento o el deslizamiento de la oblea durante el proceso de grabado. Esto garantiza patrones de grabado precisos y repetibles, minimizando defectos y pérdidas de rendimiento.

Compatibilidad con salas blancas: el transportador de obleas está diseñado para cumplir con estrictos estándares de salas blancas. Presenta baja generación de partículas y excelente limpieza, lo que evita cualquier contaminación por partículas que pueda comprometer la calidad y el rendimiento del proceso de grabado. La impureza es inferior a 5 ppm.

Construcción robusta y duradera: el transportador está diseñado con materiales de alta calidad conocidos por su durabilidad y larga vida útil. Puede soportar el uso repetido y procesos de limpieza rigurosos sin comprometer su rendimiento o integridad estructural.

Diseño personalizable: Ofrecemos opciones personalizables para satisfacer los requisitos específicos del cliente. El transportador se puede adaptar para adaptarse a diferentes tamaños de oblea, espesores y especificaciones de proceso, lo que garantiza la compatibilidad con diversos equipos y procesos de grabado.

Experimente la confiabilidad y el rendimiento de nuestro portador de obleas para proceso de grabado ICP/PSS, diseñado para optimizar el proceso de grabado en la industria de semiconductores. Su compatibilidad química mejorada, resistencia a altas temperaturas, uniformidad de grabado superior, excelente estabilidad de la oblea, compatibilidad con salas blancas, construcción robusta y diseño personalizable lo convierten en la opción ideal para sus aplicaciones de grabado.

Placa de grabado PSS Placa de grabado ICP Susceptor de grabado ICP