Placa portadora de grabado de PSS para semiconductor

● Diseño de precisión: La placa portadora está diseñada con dimensiones precisas y planitud de la superficie para garantizar un grabado uniforme y consistente a través de las obleas semiconductores. Proporciona una plataforma estable y controlada para las obleas, lo que permite resultados de grabado precisos y confiables.

● Resistencia al plasma: La placa portadora exhibe una excelente resistencia al plasma utilizado en el proceso de grabado. No se ve afectado por los gases reactivos y el plasma de alta energía, asegurando la vida útil prolongada y el rendimiento constante.

● Conductividad térmica: La placa portadora presenta una alta conductividad térmica para disipar eficientemente el calor generado durante el proceso de grabado. Esto ayuda a mantener un control de temperatura óptimo y evita el sobrecalentamiento de las obleas semiconductores.

● Compatibilidad: La placa portadora de grabado de PSS está diseñada para ser compatible con varios tamaños de obleas de semiconductores comúnmente utilizados en la industria, asegurando la versatilidad y la facilidad de uso en los diferentes procesos de fabricación.

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