Sic recubrimiento de recubrimiento inferior

Vetek Semiconductor es el fabricante comprometido a proporcionar alta calidadRecubrimiento TAC CVDy CVD Sic Coating Collector Bottom y trabaja en estrecha colaboración con el equipo de Aixtron para satisfacer las necesidades de nuestros clientes. Ya sea en la optimización de procesos o el desarrollo de nuevos productos, estamos listos para brindarle soporte técnico y responder cualquier pregunta que pueda tener.

Función del núcleo del producto

Garantía de estabilidad del proceso

Control de gradiente de temperatura: ±1.5℃/cm@1200℃

Optimización del campo de flujo: el diseño especial del canal hace que la uniformidad de distribución de gas de reacción sea hasta 92.6%

Mecanismo de protección de equipos

Protección dual:

Túfer de choque térmico: resistir 10 ℃/s cambio de temperatura rápida

Intercepción de partículas: captura> 0.3 μm de partículas de sedimento

En el campo de la tecnología de vanguardia

Control de calidad de proceso completo

Sistema de trazabilidad de producción

Fuente de materias primas: grafito Tokai/Toyo de Japón, grafito SGL de Alemania

Monitoreo gemelo digital: cada componente coincide con una base de datos de parámetros de proceso independiente

Escenario de aplicación:

Fabricación de semiconductores de tercera generación

Escenario: crecimiento epitaxial SIC de 6 pulgadas (control de espesor de 100-150 μm)

Modelo compatible: Aixtron G5 WW/Crius II

Mediante el uso de Aixtron Sic recopilado Collector Top, Collector Center y Collector recubierto de SIC, se puede lograr el manejo térmico y la protección química en los procesos de fabricación de semiconductores, se puede optimizar el entorno de crecimiento de la película y se puede mejorar la calidad y consistencia de la película. La combinación de estos componentes en el equipo Aixtron garantiza condiciones de proceso estables y una producción eficiente de semiconductores.

Datos SEM de CVD SIC Film