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Crisol de carbono vidrioso
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Crisol de carbono vidrioso

Como fabricante chino líder de productos de carbono vidrioso, los crisoles de carbono vidriosos de Veteksemicon se utilizan ampliamente en el campo de fabricación de semiconductores debido a su excelente pureza ultra alta, porosidad cero, antipermeación y excelente resistencia a la corrosión química, y han ganado un alto elogio de los clientes europeos y estadounidenses. Bienvenido a su consulta.

1. Características del material: carbono vidrioso no graphitizado, el rendimiento supera los materiales tradicionales en todos los aspectos


El crisol de carbono vidrioso de Veteksemicon adopta una tecnología de sinterización avanzada de alta temperatura, y el precursor de polímero se procesa a 3000 ° C en un entorno de gas inerte. Tiene tanto la densidad del vidrio como la resistencia de alta temperatura de la cerámica.Las ventajas centrales incluyen:


Ultra alta pureza: El contenido de impureza es inferior a 2ppm (como impurezas metálicas como el aluminio y el hierro), lo que satisface las necesidades de los materiales de grado semiconductores.


Resistencia extrema de la temperatura: Se puede usar de manera estable hasta 3000 ° C en vacío o gas inerte, y la resistencia aumenta con el aumento de la temperatura (la resistencia a 2400 ° C es el doble de la temperatura normal).


Cero porosidad y anti-permeabilidad: No hay poros abiertos, y el coeficiente de permeabilidad de gas es tan bajo como 10 ⁻⁹ cm²/s, lo que puede evitar la oxidación o contaminación del metal fundido.


Excelente conductividad eléctrica y térmica: conductividad térmica 6.3 w/(m · k), resistividad 45μΩ · m, adecuada para el proceso de calentamiento de inducción de alta frecuencia.


Resistencia a la corrosión química: Resistente al ácido fuerte, el álcali fuerte y la corrosión de sal fundida, sin desprendimiento de partículas, asegurando la limpieza de la producción de semiconductores.


Glassy Carbon Coated Graphite Crucibles

2. Escenarios de aplicación central en el procesamiento de semiconductores


Los productos de crisol de carbono vidriosos de Veteksemicon cubren los enlaces clave de todo el proceso en la fabricación de semiconductores, generalmente incluyendo:


1) Crecimiento de silicio de cristal único:


El recubrimiento aislante utilizado para el horno de crecimiento de cristal SIC, mejorando la estabilidad del campo térmico y reduciendo el consumo de energía en un 20%.


Las características de alta pureza evitan la contaminación por fusión de silicio y reducen los defectos de la red.


2) Implantación de iones y proceso de grabado:


Como difusor de electrodo y gas para el sistema de grabado de plasma, garantiza la descarga uniforme y la consistencia del proceso.


Las características de bombardeo anti-iones extienden la vida útil del equipo.


3) Metalización y fundición de aleación:


El contenedor ideal para las aleaciones de oro fundido, paladio y titanio, la superficie no humectante reduce la pérdida de material.


Adecuado para la purificación y moldeo de metales raros altamente activos (como galio e indium).


AdvertenciaLos crisoles de carbono de vidrio no se pueden usar para derretir las aleaciones de cromo-cobalto-molibdeno. Del mismo modo, no se pueden usar para derretir ningún carburo fácilmente, como silicio o tungsteno.


4) Embalaje y pruebas avanzadas:


Como portador de transferencia de obleas (oblea ficticia) y reflector de calor, garantiza la estabilidad de los procesos de alta temperatura.


Glassy Carbon Crucible

3. Fuerza de producción empresarial: fabricación a gran escala e innovación tecnológica


Como proveedor principal de materias primas de carbono de vidrio, Veteksemicon tiene las siguientes ventajas básicas:


Producción independiente de procesamiento completo


Desde la polimerización de la materia prima hasta la sinterización de alta temperatura, todo el proceso es controlable para garantizar la consistencia por lotes.


La capacidad de producción en masa cubre recubrimientos ultra delgados de nivel de 5 μm a grandes crisoles (como diámetro de 132 mm, especificaciones de 273 mm de altura).


Capacidades de procesamiento personalizadas


Admite la personalización del tamaño no estándar (como crisoles de forma especial, tubos, películas), con una precisión de tolerancia de ± 0.2 mm.


Reservas de I + D de tecnología


Coopere con las instituciones de investigación científica de la Academia de Ciencias de China para desarrollar carbono nano vidrio (resistencia hasta 3GPA) y expandir la aplicación de equipos semiconductores miniaturizados.


Exponga campos emergentes, como placas bipolares de celda de combustible y boquillas de cola aeroespacial para promover la innovación transfronteriza de los materiales.


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