Servicio de limpieza de piezas de grafito con revestimiento de CVD SiC

1. Desafíos que puede enfrentar

• Capa de AlN difícil de eliminar:La limpieza térmica a 1300 °C todavía no puede grabar eficazmente la capa residual de AlN.

• Efecto Memoria Recurrente:El efecto de memoria superficial provoca un flujo de gas inestable en el reactor, lo que afecta la consistencia del proceso.

• Ciclo de limpieza ImpactoRendimiento de ts:Normalmente cada 16 ciclos de proceso (4 a 5 susceptores) necesitan una limpieza externa.

• Preocupación por dañar el costoso revestimiento:La falta de experiencia interna en limpieza química hace que los operadores duden en intentar una limpieza agresiva.

2. Nuestra solución: diseñada para procesos GaN/AlN/AlGaN

• Limpieza Profesional:Proceso personalizado desarrollado específicamente para piezas de grafito recubiertas de CVD SiC. No se requiere fórmula química por parte del cliente.

• Seguridad del recubrimiento:Protege estrictamente el revestimiento CVD SiC de 100 µm. Pérdida de espesor nula absoluta tras la limpieza.

• Resultados verificables:Certificado de análisis completo (COA) que cubre cinco dimensiones principales. Datos listos para archivo y auditoría de calidad.

3. Cinco criterios básicos de aceptación

Estrictamente alineado con los requisitos críticos de los usuarios de epitaxia de semiconductores:

1. Cero pérdida de recubrimiento– El espesor del recubrimiento de SiC nunca se reduce después de la limpieza (verificación de comparación de espesor antes y después).

2. Sin deformación de la superficie– La planitud y la precisión geométrica se inspeccionan estrictamente para garantizar que no haya deformación física.

3. Eliminar el efecto memoria– El análisis XPS para residuos de Al/Ga confirma la eliminación completa de las fuentes del efecto memoria.

4. Cero residuos de metales– Las pruebas ICP-MS para Fe, Cu, Ni y otros metales verifican que no haya impurezas metálicas residuales.

5. Sin exceso de partículas– La prueba de partículas QIII más la verificación de limpieza previenen la inestabilidad del flujo de gas causada por partículas residuales.

4. Inspección de entrega e informe COA

Cada lote se entrega con datos de verificación completos en cinco dimensiones principales:

5. Productos aplicables y antecedentes del proceso

Parámetros del producto

Proceso de servicio

1. Consulta– Enviar fotos de pieza/modelo/cantidad para evaluación.

2. Cotización– Evaluación técnica y propuesta detallada de limpieza con cotización.

3. Envío– Envíenos las piezas u organice el servicio de recogida.

4. Limpieza– Limpieza profesional + inspección completa multidimensional.

5. Informe– Informe COA emitido y piezas limpias devueltas.

6. Seguimiento– Seguimiento de efectos y soporte técnico continuo.

6. ¿Por qué elegir el servicio de limpieza VETEK?

VETEK combina una profunda experiencia en tecnología de recubrimiento CVD SiC con capacidades de limpieza especializadas para susceptores de grafito de alto valor. Entendemos la importancia crítica de la integridad del recubrimiento, el control de partículas y la pureza del proceso en la epitaxia de GaN/AlN. Nuestro servicio está diseñado para clientes que requieren seguridad absoluta para los costosos recubrimientos CVD SiC y al mismo tiempo resolver por completo los problemas de inestabilidad del flujo de gas y efecto memoria.

· Limpieza de prueba disponible para verificación de lotes pequeños

· Informe COA completo proporcionado con cada entrega

· Riesgo cero de daños en el recubrimiento o nueva contaminación

· Profesional · Seguro · Verificable