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Horno de crecimiento de cristales de SiC con calentamiento por resistencia de gran tamaño
  • Horno de crecimiento de cristales de SiC con calentamiento por resistencia de gran tamañoHorno de crecimiento de cristales de SiC con calentamiento por resistencia de gran tamaño

Horno de crecimiento de cristales de SiC con calentamiento por resistencia de gran tamaño

El crecimiento de cristales de carburo de silicio es un proceso central en la fabricación de dispositivos semiconductores de alto rendimiento. La estabilidad, precisión y compatibilidad de los equipos de crecimiento de cristales determinan directamente la calidad y el rendimiento de los lingotes de carburo de silicio. Basándose en las características de la tecnología de transporte físico de vapor (PVT), Veteksemi ha desarrollado un horno de calentamiento por resistencia para el crecimiento de cristales de carburo de silicio, lo que permite un crecimiento estable de cristales de carburo de silicio de 6, 8 y 12 pulgadas con total compatibilidad con sistemas de materiales conductores, semiaislantes y de tipo N. Mediante un control preciso de la temperatura, la presión y la potencia, reduce eficazmente los defectos del cristal como EPD (densidad de picadura) y BPD (dislocación del plano basal), al tiempo que presenta un bajo consumo de energía y un diseño compacto para cumplir con los altos estándares de la producción industrial a gran escala.

Parámetros técnicos

Parámetro
Especificación
Proceso de crecimiento
Transporte físico de vapor (PVT)
Método de calentamiento
Calentamiento por resistencia de grafito
Tamaños de cristal adaptables
6 pulgadas, 8 pulgadas, 12 pulgadas (conmutable; tiempo de reemplazo de la cámara <4 horas)
Tipos de cristal compatibles
Tipo conductor, tipo semiaislante, tipo N (serie completa)
Temperatura máxima de funcionamiento
≥2400℃
Vacío definitivo
≤9×10⁻⁵Pa (condición de horno frío)
Tasa de aumento de presión
≤1.0Pa/12h (horno frío)
Poder de crecimiento cristalino
34,0 KW
Precisión del control de potencia
±0,15% (en condiciones de crecimiento estables)
Precisión del control de presión
0,15 Pa (etapa de crecimiento); fluctuación <±0,001 Torr (a 1,0 Torr)
Densidad de defectos cristalinos
DBP < 381 e/cm²; DET < 1054 unidades/cm²
Tasa de crecimiento cristalino
0,2-0,3 mm/h
Altura de crecimiento del cristal
30-40 mm
Dimensiones totales (Ancho×Profundidad×Alto)
≤1800mm×3300mm×2700mm


Ventajas principales


 Compatibilidad de tamaño completo

Permite el crecimiento estable de cristales de carburo de silicio de 6, 8 y 12 pulgadas, totalmente compatible con sistemas de materiales conductores, semiaislantes y de tipo N. Cubre las necesidades de producción de productos con diferentes especificaciones y se adapta a diversos escenarios de aplicación.


● Fuerte estabilidad del proceso

Los cristales de 8 pulgadas tienen una excelente consistencia de politipo 4H, una forma de superficie estable y una alta repetibilidad; La tecnología de crecimiento de cristal de carburo de silicio de 12 pulgadas ha completado la verificación con una alta viabilidad de producción en masa.


● Baja tasa de defectos de cristal

Mediante un control preciso de la temperatura, la presión y la potencia, los defectos del cristal se reducen eficazmente con indicadores clave que cumplen con los estándares: EPD=1435 ea/cm², BPD=381 ea/cm², TSD=0 ea/cm² y TED=1054 ea/cm². Todos los indicadores de defectos cumplen con los requisitos de calidad del cristal de alta calidad, lo que mejora significativamente el rendimiento del lingote.


● Costos operativos controlables

Tiene el menor consumo de energía entre productos similares. Los componentes centrales (como los escudos de aislamiento térmico) tienen un ciclo de reemplazo largo de 6 a 12 meses, lo que reduce los costos operativos integrales.


● Comodidad de conectar y usar

Paquetes de recetas y procesos personalizados basados ​​en las características del equipo, verificados a través de producción a largo plazo y de lotes múltiples, lo que permite la producción inmediata después de la instalación.


● Seguridad y confiabilidad

Adopta un diseño especial de chispa antiarco para eliminar posibles riesgos de seguridad; Las funciones de monitoreo en tiempo real y alerta temprana evitan de manera proactiva los riesgos operativos.


● Excelente rendimiento de vacío

Los indicadores finales de tasa de aumento de presión y vacío superan los niveles líderes a nivel internacional, lo que garantiza un entorno limpio para el crecimiento de cristales.


● Operación y mantenimiento inteligentes

Cuenta con una interfaz HMI intuitiva combinada con un registro de datos integral, que admite funciones de monitoreo remoto opcionales para una gestión de producción eficiente y conveniente.


Visualización visual del rendimiento principal


Curva de precisión del control de temperatura

Temperature Control Accuracy Curve

Precisión del control de temperatura del horno de crecimiento de cristales ≤ ±0,3°C; Resumen de la curva de temperatura



Gráfico de precisión del control de presión


Pressure Control Accuracy Graph

Precisión del control de presión del horno de crecimiento de cristales: 1,0 Torr, Precisión del control de presión: 0,001 Torr


Precisión de estabilidad de potencia


Estabilidad y consistencia entre hornos/lotes: la precisión de la estabilidad de la potencia.

Power Stability Precision

En el estado de crecimiento del cristal, la precisión del control de potencia durante el crecimiento estable del cristal es de ±0,15 %.


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