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Obleas de nitruro de aluminio (AlN)
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Obleas de nitruro de aluminio (AlN)

VeTek Semiconductor suministra obleas y sustratos monocristalinos de nitruro de aluminio (AlN) de alta calidad para dispositivos semiconductores de banda prohibida ultra ancha de próxima generación. Con una banda prohibida ultra amplia de aproximadamente 6,2 eV, una excelente conductividad térmica, un aislamiento eléctrico excepcional y una excelente combinación de red y expansión térmica con GaN, las obleas de AlN son ideales para dispositivos de RF de alta potencia, electrónica de potencia de alto voltaje y optoelectrónica ultravioleta profunda (DUV).


1. Características y ventajas clave

• Banda prohibida ultra ancha ≈ 6,2 eV: la más alta entre los materiales semiconductores convencionales

• Alta conductividad térmica ≈ 320 W/m·K para una disipación de calor eficiente

• Excelente aislamiento eléctrico (>10¹³ Ω·cm) y alto campo de ruptura (12–15 MV/cm)

• Buena combinación de red y expansión térmica con GaN: ideal para heteroestructuras de GaN-sobre-AlN

• Opciones de baja densidad de dislocación con control estricto de la curva de oscilación HR-XRD

• Al-face CMP (Ra ≤ 0,5 nm) y N-face MP para superficies preparadas para epi

• Múltiples tamaños y grados de calidad (P/R/D) para satisfacer los requisitos de producción e investigación.

2. Aplicaciones típicas

• Dispositivos RF de alta potencia para radar y comunicaciones 6G

• Electrónica de potencia de alto voltaje para redes, centros de datos y vehículos eléctricos

• LED de luz ultravioleta profunda (UVC) y diodos láser

• Crecimiento epitaxial de GaN-on-AlN y dispositivos avanzados de heteroestructura

• Componentes semiconductores de alta temperatura, alta frecuencia y entornos hostiles

3. Tamaños disponibles y grados de calidad

VeTek ofrece obleas de AlN en los siguientes formatos estándar. Los tamaños y especificaciones personalizados se pueden discutir a pedido.

• Sustratos cuadrados de 10 × 10 mm

• Obleas de 1 pulgada (25,4 mm)

• Obleas de 2 pulgadas (50,8 mm)

Grados de calidad: grado P (Producto), grado R (Investigación), grado D (Experimental), diferenciados principalmente por la curva de oscilación FWHM HR-XRD y la calidad general del cristal.

4. Especificaciones técnicas clave

Parámetros comunes en todos los tamaños (valores típicos; dependientes del grado, cuando se indique):

Parámetro

Grado P

Grado R

Grado D

Orientación

(0001) ± 0,5°

Espesor

450 micras ± 25 micras

HR-XRD FWHM (002)

≤ 100 segundos de arco

≤ 200 segundos de arco

≤ 300 segundos de arco

HR-XRD FWHM (102)

≤ 80 segundos de arco

≤ 150 segundos de arco

≤ 250 segundos de arco

Pulido de superficies

CMP Al-face, MP N-face

Rugosidad superficial Ra

Al ≤ 0,5 nm; norte ≤ 1,2 μm

Arañazos/descantillados (a simple vista)

Ninguno

Exclusión de borde

1 milímetro

Embalaje

Caja de oblea única

Tolerancias geométricas específicas del tamaño:

• 10×10 mm: Longitud lateral 10 mm ± 0,5 mm; TTV ≤ 15 µm; Arco ≤ 15 μm

• 1 pulgada: Diámetro 25,4 mm ± 0,5 mm; Área utilizable ≥ 90%; TTV ≤ 20 µm; Arco ≤ 20 μm; Plano primario (10-10) ± 5°, longitud 8 mm ± 1 milímetro

• 2 pulgadas: Diámetro 50,8 mm ± 0,5 mm; Área utilizable ≥ 90%; TTV ≤ 30 µm; Arco ≤ 30 μm; Longitud plana primaria 16 mm ± 2 mm

5. ¿Por qué elegir las obleas VeTek AlN?

Como proveedor especializado de materiales y componentes semiconductores avanzados, VeTek Semiconductor ofrece:

• Obleas monocristalinas de AlN de alta calidad con calidad de cristal controlada y superficies preparadas para epi

• Múltiples opciones de tamaño y calidad para respaldar tanto la producción de dispositivos como los programas de investigación

• Soluciones complementarias de obleas y sustratos bajo la cartera de materiales semiconductores de VeTek

• Soporte técnico para la selección de materiales y combinación de procesos.

Nuestras obleas de AlN ayudan a los clientes a acelerar el desarrollo de dispositivos optoelectrónicos de RF de alta potencia, potencia de alto voltaje y UV profundo que exigen la combinación única de banda prohibida ultra ancha, alta conductividad térmica y compatibilidad con GaN que ofrece el nitruro de aluminio.


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  • Correo electrónico

    anny@veteksemi.com

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