Calentador de revestimiento TaC

El calentador de recubrimiento TAC es un elemento de calentamiento de alto rendimiento ampliamente utilizado en los procesos de fabricación de semiconductores. Su superficie está recubierta con material de carburo tantálico (TAC), lo que le da al calentador una excelente resistencia a la alta temperatura, resistencia a la corrosión química y una excelente conductividad térmica.

Las principales aplicaciones del calentador de recubrimiento TaC en la fabricación de semiconductores incluyen:

 ✔ Durante el proceso de crecimiento epitaxial de nitruro de galio (GaN), el calentador de recubrimiento TAC proporciona un entorno de alta temperatura controlado con precisión para garantizar que la capa epitaxial se deposite en el sustrato a una velocidad uniforme y de alta calidad. Su salida de calor estable ayuda a lograr un control preciso de los materiales de película delgada, mejorando así el rendimiento del dispositivo.

 ✔ Además, en el proceso de deposición química de vapor organometálico (MOCVD), combinado con la resistencia a altas temperaturas y la conductividad térmica del recubrimiento de TaC, el calentador de recubrimiento de TaC generalmente se usa para calentar el gas de reacción y, al proporcionar una distribución uniforme del calor, promueve su reacción química en la superficie del sustrato, mejorando así la uniformidad de la capa epitaxial y formando una película de alta calidad.

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