Placa de distribución de gas de cuarzo

Las placas de distribución de gas de cuarzo, también conocidas como cabezas de ducha de cuarzo, son componentes críticos en la fabricación de semiconductores. Aprovechando la pureza excepcional, la resistencia a la alta temperatura y la resistencia a la corrosión del cuarzo, estas placas aseguran un flujo uniforme y estable de gases de proceso en la superficie de la oblea. Esta entrega precisa es esencial para mantener la calidad y la uniformidad de las películas depositadas o las características grabadas.

Características clave del cuarzo fusionado de alta pureza

● Material: 99.99%de cuarzo fusionado de alta pureza

● Resistencia de alta temperatura: Resistir temperaturas superiores a 1000 ℃

● Resistencia a la corrosión: Excelente durabilidad contra los gases de proceso y entornos de plasma

● Flujo de gas de precisión: Distribución uniforme de microhole para suministro óptimo de gas y deposición uniformidad

● Diseño personalizable: El tamaño, el patrón de agujeros y las características de montaje se pueden adaptar para modelos de equipos específicos

Roles centrales en la fabricación de semiconductores

1. Deposición de vapor físico (PVD) y deposición de vapor químico (CVD)

Role: En los procesos de PVD y CVD, la placa de distribución de gas dirige con precisión los gases reactivos (por ejemplo, silano, amoníaco, oxígeno) o precursores sobre la oblea para formar una película delgada deseada.

Usos específicos:

● Control de uniformidad: los microholes de ingeniería con precisión de la placa aseguran que el flujo de gas y la concentración sean uniformes en toda la superficie de la oblea. Esto es vital para depositar películas con un grosor y rendimiento consistentes.

● Prevención de contaminación: la alta pureza del cuarzo evita que la placa reaccione con gases de proceso o libras de impurezas. Esto mantiene la pureza de la película y previene los defectos en la superficie de la oblea.

2. Deposición de vapor químico mejorado por plasma (PECVD)

Role: En PECVD, el cabezal de ducha de cuarzo no solo ofrece gases reactivos, sino que también funciona como un electrodo para la generación de plasma.

Usos específicos:

● Ignición de plasma: la cabeza de ducha generalmente está conectada a una fuente de alimentación de radiofrecuencia (RF) para generar un plasma. Las partículas de alta energía dentro del plasma promueven la descomposición de reactivos gaseosos, lo que permite la deposición de la película a temperaturas más bajas.

● Estabilidad térmica: el cuarzo exhibe una excelente estabilidad térmica, lo que le permite resistir el entorno de plasma de alta temperatura. Esto ayuda a mantener una temperatura uniforme dentro de la cámara de proceso, asegurando aún más la calidad y consistencia de la película.

3. Grabado seco

Role: En el grabado seco, la placa de distribución de gases introduce gases de grabado reactivos (por ejemplo, fluorocarbonos, cloro) en la cámara de grabado.

Usos específicos:

● Uniformidad de grabado: la placa garantiza un flujo uniforme y una concentración de gases de grabado, lo que garantiza una profundidad y perfil de grabado constantes en toda la oblea. Esto es crucial para lograr los patrones precisos necesarios para dispositivos semiconductores avanzados.

● Resistencia a la corrosión: las fuertes propiedades corrosivas de los gases de grabado requieren un material duradero. La alta resistencia a la corrosión de cuarzo extiende la vida útil del cabezal de ducha y reduce el riesgo de interrupciones del proceso.

4. Limpieza de obleas

Role: En procesos específicos de limpieza de obleas, se utiliza una placa de distribución de gas de cuarzo para administrar gases de limpieza (por ejemplo, ozono, amoníaco) de manera uniforme a la superficie de la oblea para eliminar residuos o contaminantes.

Usos específicos:

● Limpieza constante: la placa asegura que los gases de limpieza lleguen a cada parte de la oblea, lo que permite un proceso de limpieza completo y uniforme.

● Compatibilidad química: la compatibilidad de cuarzo con una amplia gama de productos químicos de limpieza previene las reacciones y mantiene la pureza y la efectividad del proceso de limpieza.