Tubo de horno de cuarzo para horno de difusión

1. Características y ventajas clave

• Cuarzo fundido deshidroxilado de pureza ultraalta (SiO₂ ≥ 99,999%) con impurezas metálicas controladas a niveles de ppb y contenido de hidroxilo extremadamente bajo

• Temperatura de funcionamiento a largo plazo hasta 1100 °C; Resistencia máxima a corto plazo hasta 1200 °C.

• Excelente resistencia al choque térmico después del recocido total para aliviar la tensión: resistente al agrietamiento bajo cambios rápidos de temperatura

• Excelente inercia química frente a gases de proceso oxidantes, reductores y que contienen halógenos; adecuado para plasma y atmósferas corrosivas

• Desgasificación al vacío muy baja; La pared interior lisa minimiza la acumulación de subproductos y favorece la repetibilidad del proceso.

• Formado de una sola pieza con espesor de pared uniforme, alta coaxialidad y extremos con acabado de precisión para un sellado confiable

• Estructuras personalizables: tubos rectos, tubos reductores, tubos con bridas, longitudes extendidas y configuraciones de extremos especiales para hornos verticales u horizontales.

2. Aplicaciones típicas

Los tubos de horno de cuarzo VeTek se utilizan ampliamente como cámara de reacción central en:

• Hornos de oxidación térmica (oxidación seca/húmeda)

• Hornos de difusión para introducción de dopantes (B, P, As, etc.)

• Sistemas LPCVD para deposición de películas delgadas

• Recocido al vacío y otros procesos de tratamiento térmico a alta temperatura

• Compatible con plataformas de oblea de 4, 6, 8 y 12 pulgadas (sustratos de Si, SiC, GaN y zafiro)

Admiten líneas de fabricación de lógica, memoria, dispositivos de alimentación, MCU, LED, MEMS y semiconductores de banda ancha que requieren uniformidad de temperatura estable, control del flujo de gas y entornos de proceso ultralimpios.

3. Parámetros técnicos clave

• Material: Cuarzo fundido deshidroxilado de calidad semiconductor (SiO₂ ≥ 99,999%), bajo contenido de hidroxilo y pocas impurezas metálicas.

• Compatibilidad con obleas: 4 / 6 / 8 / 12 pulgadas

• Temperatura de trabajo a largo plazo: −20 °C a 1100 °C; pico a corto plazo hasta 1200 °C

• Proceso: conformado térmico de una pieza, homogeneización de paredes, acabado final, recocido para aliviar tensiones, prueba de fugas de helio, limpieza ultralimpia

• Estructuras disponibles: tubo recto, tubo reductor, tubo con brida, tubo de longitud extendida/personalizada, configuraciones de extremos especiales

• Personalización: diámetro interior/exterior, longitud, espesor de pared, especificaciones de brida y geometrías especiales según los dibujos del cliente.

4. ¿Por qué elegir los tubos para hornos de cuarzo VeTek?

Como fabricante profesional de componentes semiconductores de cuarzo, VeTek Semiconductor ofrece:

• Tubos de horno de cuarzo de alta pureza diseñados para equipos de oxidación, difusión, LPCVD y recocido.

• Estricto control de pureza, precisión dimensional y limpieza adecuados para la producción en salas blancas Clase 10/Clase 100

• Personalización total y diseños compatibles con OEM para hornos tubulares verticales y horizontales

• Productos semiconductores de cuarzo complementarios, incluidos obleas, crisoles, revestimientos y otros componentes de proceso.

Nuestros tubos de horno de cuarzo ayudan a mantener condiciones térmicas y de flujo de gas estables, minimizan la contaminación por partículas y metales y extienden la vida útil bajo ciclos continuos de alta temperatura, lo que respalda un mayor rendimiento y un menor costo de propiedad en el procesamiento térmico de semiconductores.