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El carburo de silicio está remodelando la industria de semiconductores para aplicaciones de energía y alta temperatura, con sus propiedades integrales, desde sustratos epitaxiales hasta recubrimientos protectores y vehículos eléctricos y sistemas de energía renovable.

Alta pureza: la capa epitaxial de silicio cultivada mediante deposición química de vapor (CVD) tiene una pureza extremadamente alta, una mejor planitud de la superficie y una menor densidad de defectos que las obleas tradicionales.

El carburo de silicio sólido (SIC) se ha convertido en uno de los materiales clave en la fabricación de semiconductores debido a sus propiedades físicas únicas. El siguiente es un análisis de sus ventajas y valor práctico basado en sus propiedades físicas y sus aplicaciones específicas en equipos de semiconductores (como portadores de obleas, cabezales de ducha, anillos de enfoque de grabado, etc.).