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Este artículo presenta principalmente los tipos de productos, las características del producto y las funciones principales del susceptor de MOCVD en el procesamiento de semiconductores, y realiza un análisis e interpretación exhaustivos de los productos de susceptores MOCVD en su conjunto.

Veteksemicon brilla en 2025 Shanghai Semicon International Exhibition, liderando el futuro de la industria de semiconductores con tecnologías innovadoras

En la industria de fabricación de semiconductores, a medida que el tamaño del dispositivo continúa reduciéndose, la tecnología de deposición de los materiales de película delgada ha planteado desafíos sin precedentes. La deposición de la capa atómica (ALD), como una tecnología de deposición de película delgada que puede lograr un control preciso a nivel atómico, se ha convertido en una parte indispensable de la fabricación de semiconductores. Este artículo tiene como objetivo introducir el flujo del proceso y los principios de ALD para ayudar a comprender su importante papel en la fabricación avanzada de chips.

Es ideal para construir circuitos integrados o dispositivos semiconductores en una capa base cristalina perfecta. El proceso de epitaxia (EPI) en la fabricación de semiconductores tiene como objetivo depositar una capa fina única cristalina, generalmente aproximadamente 0.5 a 20 micras, en un sustrato de cristal solo. El proceso de epitaxia es un paso importante en la fabricación de dispositivos semiconductores, especialmente en la fabricación de obleas de silicio.