Anillo grabado de cuarzo de alta pureza

1.Características y ventajas clave

• Cuarzo fundido deshidroxilado de grado semiconductor con SiO₂ ≥ 99,999 % e impurezas metálicas estrictamente controladas

• Operación continua estable hasta 1100 °C, con capacidad a corto plazo cerca de 1200 °C

• Fuerte resistencia a los químicos de grabado a base de flúor y cloro y a la exposición al plasma de alta energía.

• Baja expansión térmica y buen rendimiento de choque térmico bajo ciclos repetidos de temperatura de la cámara

• Desgasificación de bajo vacío para proteger la presión base de la cámara y la composición del gas de proceso

• Control dimensional a nivel de micras con superficies de contacto pulidas para un ajuste consistente de la cámara y una definición de los límites del plasma.

• Diseños configurables: anillos planos, anillos de grabado escalonados, anillos de ubicación/retención y perfiles totalmente personalizados para las principales plataformas de herramientas de grabado

2.Aplicaciones típicas

Los anillos de grabado de cuarzo de alta pureza se utilizan en cámaras de proceso de grabado por plasma seco para:

• Pasos de grabado con plasma de dispositivos lógicos y de memoria

• Procesos de grabado de dispositivos de potencia de SiC y GaN

• Grabado de estructura de alta relación de aspecto

• Procesamiento de plasma de sustratos ópticos y de semiconductores compuestos.

• Grabado con plasma de embalaje avanzado y pasos de limpieza relacionados

• Herramientas de grabado para laboratorio y producción RIE / ICP

3.Parámetros técnicos clave

• Material: cuarzo fundido deshidroxilado de calidad semiconductor, SiO₂ ≥ 99,999%

• Compatibilidad con obleas: silicio, SiC, GaN y zafiro de 2/4/6/8/12 pulgadas

• Temperatura de funcionamiento: −20 °C a 1100 °C continuo; pico a corto plazo aproximadamente 1200 °C

• Funciones principales: confinamiento de los bordes del plasma, guía del flujo de gas, protección de los bordes y aislamiento de la cámara.

• Calidad de mecanizado: tolerancias a nivel de micras, superficies pulidas, bordes controlados y acabado limpio

• Opciones de estructura: anillo plano, anillo de grabado escalonado, anillo de ubicación/retención y geometrías personalizadas

• Personalización: diámetro exterior/interior, espesor, altura del escalón, características de ubicación, chaflanes y detalles de la interfaz por dibujo

4.¿Por qué elegir los anillos grabados de cuarzo de alta pureza VeTek?

VeTek Semiconductor suministra hardware de cuarzo crítico para procesos para herramientas térmicas y de grabado. Para los anillos de grabado, la atención se centra en:

• Pureza del material y limpieza de superficies adecuadas para entornos avanzados de grabado en seco

• Precisión dimensional que respalda un control estable de los límites del plasma y un ajuste repetible de la cámara

• Flexibilidad de diseño para reemplazo estilo OEM e interfaces de cámara totalmente personalizadas

• Una gama completa de componentes de cuarzo que también incluye soportes para obleas, tubos para hornos, embarcaciones y piezas de proceso relacionadas.

Al combinar alta pureza, durabilidad del plasma y un control estricto de la geometría, los anillos de grabado de cuarzo de alta pureza VeTek ayudan a mejorar la uniformidad del grabado en toda la oblea, reducen los defectos relacionados con los bordes y admiten ciclos de producción más largos y estables en herramientas de grabado con plasma seco.