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Un susceptor de grafito recubierto de SiC para ASM no es solo una pieza de repuesto dentro de un sistema de epitaxia. Es un portador crítico para el proceso que influye en la uniformidad térmica, la limpieza de las obleas, la durabilidad del recubrimiento, la estabilidad de la cámara y el costo de producción a largo plazo.

Una cubierta con revestimiento CVD TaC no es solo una tapa protectora o un componente recubierto de grafito. En procesos de semiconductores de alta temperatura, puede influir en la limpieza de la cámara, la estabilidad térmica, la vida útil de las piezas y la consistencia del proceso.

En la producción de PECVD, muchos problemas de recubrimiento y deposición no comienzan con la energía del plasma o la química del gas. Comienzan con el transportador que sostiene las obleas.