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Tecnología de preparación de epitaxia de silicio (SI)16 2024-07

Tecnología de preparación de epitaxia de silicio (SI)

Los materiales monocristalinos por sí solos no pueden satisfacer las necesidades de la creciente producción de diversos dispositivos semiconductores. A finales de 1959, se desarrolló una tecnología de crecimiento de material monocristalino de capa fina: el crecimiento epitaxial.
Basado en tecnología de horno de un solo cristal de carburo de silicio de 8 pulgadas11 2024-07

Basado en tecnología de horno de un solo cristal de carburo de silicio de 8 pulgadas

El carburo de silicio es uno de los materiales ideales para hacer dispositivos de alta temperatura, alta frecuencia, alta potencia y alto voltaje. Para mejorar la eficiencia de producción y reducir los costos, la preparación de sustratos de carburo de silicio de gran tamaño es una dirección de desarrollo importante.
Según se informa, las empresas chinas están desarrollando chips de 5 nm con Broadcom.10 2024-07

Según se informa, las empresas chinas están desarrollando chips de 5 nm con Broadcom.

Según Overseas News, dos fuentes revelaron el 24 de junio que el bytedance está trabajando con la compañía de diseño de chips de EE. UU. Broadcom para desarrollar un procesador de computación de inteligencia artificial (IA) avanzada, que ayudará a los bytedance garantizar un suministro adecuado de chips de alta gama en medio de tensiones entre China y los Estados Unidos.
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